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名 称:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司认 证:工商信息已核实
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公司动态更多
公司简介更多
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司(以下简称 “公司”)创建于1958年,公司总部位于辽宁省沈阳市浑南区,占地面积110亩,建筑面积3.5万平方米。多年来,公司专注于高真空、超高真空、超洁净真空技术的研究和发展,是我国集成电路装备和真空仪器设备的研制、生产基地,先后组建“国家分子束外延技术开发实验基地”、“国家真空仪器装置工程技术研究中心”和“真空技术装备国家工程研究中心” 等科研平台。
公司主要从事干式真空泵、真空仪器设备的研发、生产和销售,并提供相关技术服务。公司产品主要包括系列罗茨干泵、系列涡旋干泵、大科学装置、真空薄膜仪器设备和新材料制备设备等。公司承担了国家“863计划”、 “02专项”、 “国家重点研发计划”等***科技专项,并通过自主研发创新实现了国产干式真空泵在集成电路领域的批量应用,打破了欧美及日本企业对同类产品的长期垄断,实现了关键装备的进口替代。公司长期致力于高端科研仪器设备的研发制造,为我国重大科技基础设施的建设发展做出贡献。在真空镀膜领域,公司研发形成了磁控溅射、离子束溅射、电子束蒸发、高温真空无油润滑、高性能高稳定性束源炉、复合镀膜等多项技术。通过多年的研发创新,公司现已开发完成第六代分子束外延设备。
公司主要从事干式真空泵、真空仪器设备的研发、生产和销售,并提供相关技术服务。公司产品主要包括系列罗茨干泵、系列涡旋干泵、大科学装置、真空薄膜仪器设备和新材料制备设备等。公司承担了国家“863计划”、 “02专项”、 “国家重点研发计划”等***科技专项,并通过自主研发创新实现了国产干式真空泵在集成电路领域的批量应用,打破了欧美及日本企业对同类产品的长期垄断,实现了关键装备的进口替代。公司长期致力于高端科研仪器设备的研发制造,为我国重大科技基础设施的建设发展做出贡献。在真空镀膜领域,公司研发形成了磁控溅射、离子束溅射、电子束蒸发、高温真空无油润滑、高性能高稳定性束源炉、复合镀膜等多项技术。通过多年的研发创新,公司现已开发完成第六代分子束外延设备。